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半导体对超纯水的电导性、离子含量、TOC、DO等指标要求越来越高，这给半导体超纯水制备行业带来了很高的准入门槛，但同时也为一些拥有核心自研技术的企业创造了发展机遇。不同行业对超纯水的标准也不尽相同，而半导体行业则被视为“档”。
除了半导体行业，其他行业对超纯水的需求同样重要。比如在电力行业中，锅炉用水对超纯水的要求特别严格，要求超过5MΩ·CM的电阻率，因为水质不纯会造成锅炉结垢，消耗热能，而且会导致锅炉底部受热不均甚至引起爆炸。在医药行业，超纯水的水质标准更高，要求电阻率不低于15MΩ·CM，电导率不高于0.5μS，氨含量不超过0.3μg/ml，硝酸盐不超过0.06μg/ml，重金属不超过0.5μg/ml。而在镀膜玻璃冲洗行业，镀膜前必须使用高于17MΩ·CM的超纯水进行清洗，否则水质不达标会导致镀膜效果差，膜层容易脱落。
制备超纯水的工艺非常复杂和精细，一般超纯水系统要经过多重过滤、离子交换、除气、逆渗透、紫外线、超滤、纳米滤、离子吸附过滤等多个环节才能产生超纯水。在制造过程中，采用的工艺技术必须***到位，不能有丝毫偏差。特别是对于半导体行业，超纯水对电阻率的要求非常严格，理论上电阻率应大于18.2MΩ?厘米，几乎不含离子。然而，常规的单一工艺很难满足这一要求，所以通常需要采用多种工艺的联合使用，如树脂+RO+EDI等。此外，不同地区的自来水中离子含量也有所不同，需要根据情况调整工艺组合，先去除颗粒物再进行脱盐处理。
除了了解工艺，生产满足工艺指标要求的超纯水，保持系统的稳定同样对于芯片制造至关重要。这不仅与终端材料和规格的选择、系统管路设计的优化有关，同时也与超纯水装置的控制系统紧密相关。在这方面，高频科技具有一定的优势。
随着电子行业的快速发展和对超纯水要求的日益严格，制备超纯水的技术将会迎来更多的挑战和机遇。只有不断创新、提高工艺技术和装置控制系统的稳定性，才能满足电子行业对超纯水的需求，为电子信息产业链的***——半导体行业的发展提供坚实的基础。
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